龙源国际



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        实验室级钙钛矿平面涂布设备
        产品概述：

        采用垂直涂覆工艺，专为平面基材的湿法薄膜制备而优化。其设计紧凑轻量，在确保高标准涂覆效果的同时，集成完善回风系统，为操作人员提供健康防护。

        核心参数：

        涂覆基材覆盖范围：200×200mm~400×400mm

        涂覆湿厚：≥3um
        成膜干厚：优于3%（@500nm）

        最大涂覆速度：100mm/s